La UAAAP/blogdelaunion, entidad vinculada al CSCAE, colaborando con el Ministerio de Fomento, publicará en este blog en tiempo real, a la vez que se contesta al interesado, las respuestas oficiales a las dudas que se consideren de interés para el colectivo planteadas al Ministerio sobre los documentos DB-SE,DB-SI y DB-SUA.

Desde el Ministerio de Fomento nos indican unas pautas a tener en cuenta a la hora de hacer las consultas:

•Se exigen requisitos de claridad, concreción, concisión e identificación de quien formula la consulta.

•Las consultas se deberán referir al CTE ya que la aclaración o interpretación de cualquier otra reglamentación o norma no corresponde al Ministerio de Fomento.

•Las consultas debe hacer referencia al CTE en términos genéricos, y no a su aplicación a un proyecto concreto o a soluciones alternativas al CTE ya que su valoración correspondería a la autoridad de control edificatorio.

•Las consultas deben precisar interpretación o aclaración y no encontrarse evidentemente resueltas aplicando el CTE y sus comentarios con el criterio y la discrecionalidad técnica siempre necesaria.

Se cuenta desde el Ministerio con un equipo de técnicos que responderán las dudas planteadas sobre los documentos DB-SE, DB-SI y DB-SUA desde el Área de Seguridad y Accesibilidad. Subdirección General de Arquitectura y Edificación. Dirección General de Arquitectura, Vivienda y Suelo. Ministerio de Fomento. Paseo de la Castellana 112, 28071 Madrid - España

Envía tus consultas exclusivamente al buzón de la Subdirección General de Arquitectura y Edificación: arquitectura@fomento.es

miércoles, 18 de diciembre de 2013

[271] Alternancia de dos dimensiones de huella


Respuesta
Se puede admitir un patrón de alternancia de las dimensiones de las huellas distinto del que establece el artículo, siempre que las huellas iguales no queden muy distanciadas y permitan su adopción por los usuarios como pauta automatizada. Por ejemplo, el patrón 2-1 que se propone, con repetición sucesiva de 2 huellas de una primera dimensión y una huella de una segunda.

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